5 月 29 日消息：据报道，曾主导“泛林-NIMS"联合项目、其技术成果已应用于台积电日本 3nm 量产线的中国科学家达博，近日正式辞去日本国立材料研究所（NIMS）终身职位；他将带领团队全职回国，加盟中科大担任讲席教授。
达博在NIMS仅用一年即获终身教职，成为该机构历史上最年轻的终身学者。他在电子束有效利用率问题上取得突破性成果，日本学界评价为“具有与准晶发现相当的原创性意义”，日立财团曾邀请其作为唯一外籍受访学者。
此前，达博负责了NIMS与泛林集团的联合研究项目，聚焦电子束与刻蚀设备中的关键材料和核心部件，该项目已应用于台积电日本3nm量产线。
然而，中国大陆半导体制造在5nm以下先进制程所需的核心部件、刻蚀材料等环节仍高度依赖进口，达博团队正是瞄准了这一薄弱环节。
值得一提的是，达博拒绝所有海外邀约，明确表示将推动中国半导体材料和核心零部件达到世界先进水平。
目前，团队部分成员已先期回国，在合肥参与国镜仪器科技公司的产业化平台建设。
达博是甘肃人，以高考状元身份考入中科大并完成本硕博九年学业，2013年赴日从事博士后研究，时隔13年全职归国。
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