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DUV光刻技术仍有潜力,EUV不是必需:台积电2nm技术突破在望
7月5日消息,EUV光刻机被视为5nm以下工艺中不可或缺的关键设备。然而,EUV成本高昂,再加上受到限制的情况,半导体工艺在仅依靠当前的DUV光
2026-07-05
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