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中科院GAA晶体管突破:DUV光刻机实现3nm芯片生产,绕开EUV技术
9月18日消息,据报道,中国科学院近日公布了一种新型全环绕栅极(GAA)晶体管架构,该架构在DUV光刻机上实现了开关比超过50万倍的性能表现
2026-09-18
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